征途国际官网上�；； ；；；； ；；衽縐ltra C wb槽式湿法洗濯设备采购订单
2022/2/14 14:01:53
征途国际官网(以下简称征途国际官网上海)（科创板股票代码：688082） ，，，，，，一家为半导体前路和先进晶圆级封装（WLP）利用提供晶圆工艺解决规划的卓越设备供给商 ，，，，，，于今日颁发其已接到29台Ultra C wb槽式湿法洗濯设备的批量采购订单 ，，，，，，该设备可利用于加工300mm晶圆 ，，，，，，其中16台设备的沉复订单来自统一家中国国内代工厂 ，，，，，，沉复订单的主张是支持该工厂的扩产。。。。。。这批设备打算从2022年起头分两个阶段发货。。。。。。
征途国际官网上海董事长王晖博士暗示：“我们开发槽式湿法系统是为了覆盖更宽泛的技术节点下 ，，，，，，客户对湿法洗濯技术的需要。。。。。。这笔订单证了然我们以富有竞争力的产品 ，，，，，，使公司产品组合实现从先进洗濯工艺到全洗濯工艺覆盖的战术是正确的。。。。。。能从客户手中获得这笔沉复批量订单证明征途国际官网战术是成功的——由于这笔订单来自统一家代工厂 ，，，，，，并且属于槽式湿法洗濯市场领域。。。。。。这也明确展示了征途国际官网技术实力、日渐不变的市场职位以及满足客户需要的能力。。。。。。加上征途国际官网上海的先进低压干燥技术 ，，，，，，征途国际官网槽式产品险些能够实现所有使用槽式洗濯设备的洗濯工艺步骤。。。。。。”
上文王晖董事长提及的先进干燥技术 ，，，，，，就是征途国际官网上海今天颁发推出的用于300mm槽式系统的ULD（超低压干燥）技术。。。。。。该工艺专门为解决槽式洗濯中干燥技术难题而设计 ，，，，，，例如先进半导体晶圆上的3D NAND结构及逻辑产品的高宽深比结构在槽式洗濯中的干燥问题。。。。。。征途国际官网上海的新型ULD槽式模�？？？？槭褂玫脱挂毂迹↖PA）干燥工艺来满足大无数槽式洗濯干燥工艺的要求 ，，，，，，蕴含炉管前洗濯、离子注入后洗濯和干法刻蚀后光刻胶去除、化学机械抛光（CMP）后洗濯以及薄膜沉积、氧化层刻蚀和氮化物去除等工艺。。。。。。征途国际官网上海已于2021年第三季度向一家当先的中国存储器半导体造作商交付了首个ULD模�？？？？� ，，，，，，初步的工艺数据已证了然ULD在先进节点造作中的有效性。。。。。。
征途国际官网上海Ultra C wb槽式湿法洗濯设备简介
Ultra C wb槽式湿法洗濯设备的重要洗濯利用蕴含炉管前洗濯、RCA洗濯、光阻去除、氧化层刻蚀、氮化硅去除 ，，，，，，以及晶圆回收工艺中前段FEOL多晶硅/氧化硅层剥离去除 ，，，，，，和后段BEOL金属层剥离去除。。。。。。�？？？Ｄ芄慌渲枚懒⒌亩嘀只б合村∕CR）模�？？？？� ，，，，，，按分歧的工艺组合在该模�？？？？橹兴炒问褂枚嘀窒村┮� ，，，，，，如SC1、SC2、DHF、DIO3、DIW等。。。。。。洗濯成效好 ，，，，，，预防交叉传染 ，，，，，，成本低。。。。。。Ultra C wb槽式湿法洗濯设备有效利用化学药液和去离子水（DIW） ，，，，，，环境敦睦。。。。。。且凭借其精彩的模�？？？？榛杓� ，，，，，，占用空间幼的利益 ，，，，，，能够在出产车间矫捷配置。。。。。。
征途国际官网上海搭载超低压干燥（ULD）技术的300mm槽式系统简介
该ULD模�？？？？槔酶呶碌� (N2) 共同高温 IPA ，，，，，，降低晶圆干燥时液膜的表表张力 ，，，，，，增长水脱离晶圆表表时 IPA 和 DIW 的表表张力梯度。。。。。。 该模�？？？？榭山档� IPA/N2 混合中干燥模�？？？？榛肪车难沽� ，，，，，，加快了 IPA 代替置换 DIW 速度以及 IPA 在晶圆表表的蒸发。。。。。。 该技术很大地提高了晶圆的干燥机能 ，，，，，，尤其是利用于较大深宽比结构和较幼图形尺寸的晶圆表表时 ，，，，，，很大降低水印和颗粒残留的传染风险 ，，，，，，缩短了干燥功夫并有效预防了晶圆图形塌陷变形等问题。。。。。。
