征途国际官网上海为硅片和碳化硅衬底造作推出新型预洗濯设备
2022/7/15 10:30:27
征途国际官网(以下简称“征途国际官网上海”)（科创板股票代码：688082），，，，，，作为一家为半导体前路和先进晶圆级封装利用提供晶圆工艺解决规划的卓越设备供给商，，，，，，今日推出新型化学机械研磨后（Post-CMP）洗濯设备。。。。。。这是征途国际官网上海的第一款Post-CMP洗濯设备，，，，，，用于造作高质量衬底化学机械研磨(CMP)工艺之后的洗濯。。。。。。该洗濯设备6英寸和8英寸的配置合用于碳化硅（SiC）衬底造作；； ；； ；； ； ；8英寸和12英寸配置合用于硅片造作。。。。。。该设备有湿进干出（WIDO）和干进干出（DIDO）两种配置，，，，，，并可选配2、4或6个腔体，，，，，，占有每幼时60片晶圆的最大产能（WPH）。。。。。。
征途国际官网上海董事长王晖博士暗示：“全球设备供给链的交付功夫持续耽搁，，，，，，这为征途国际官网上海提供了一个绝佳机遇，，，，，，我们能够凭借在半导体洗濯工艺技术方面的丰硕经验进入洗濯市场，，，，，，进一步扩大洗濯产品组合。。。。。。Post-CMP洗濯设备为征途国际官网上海的客户提供了一种不变、靠得住且拥有成本效益的解决规划，，，，，，同时还能缩短交货功夫，，，，，，大大缓解欠缺的近况。。。。。。”
在CMP步骤之后，，，，，，必要在低温下使用稀释的化学品进行物理预洗濯工艺，，，，，，以削减颗粒数量。。。。。。征途国际官网上海的Post-CMP洗濯设备可能满足这些要求，，，，，，并提供多种配置，，，，，，蕴含征途国际官网上海自主研发的 Smart Megasonix先进洗濯技术。。。。。。
第一种配置是新型WIDO在线预洗濯设备，，，，，，它能够直接与现有的CMP设备对接。。。。。。晶圆自动转移到两个刷洗腔体中，，，，，，使用化学和冷去离子水（CDIW）同时对晶圆正面、背面和斜面边缘进行处置。。。。。。而后将晶圆转移至两个或四个洗濯腔体，，，，，，并使用多种化学品和 CDIW 进行处置。。。。。。这一过程通过氮气（N2）干燥和高速旋转实现，，，，，，可实现37纳米以下少于15个渣滓颗粒的处置，，，，，，或28纳米以下20-25个渣滓颗粒的处置，，，，，，同时金属传染可节造在1E+8（原子/平方厘米）以内。。。。。。当配置4个腔体的时辰，，，，，，WIDO预洗濯设备可提供高达每幼时35片晶圆的产能。。。。。。
第二种配置是新型DIDO预洗濯独立设备，，，，，，它配有四个装载端口，，，，，，比WIDO预洗濯设备占地面积更幼，，，，，，合用于CMP产线拥有内置洗濯腔的客户，，，，，，从而维持取出的晶圆干燥优良。。。。。。在这种配置下，，，，，，晶圆通过装载端口手动转移到预洗濯设备中，，，，，，而后进行与WIDO预洗濯设备中一样的处置。。。。。。DIDO预洗濯设备有四腔或六腔配置，，，，，，别离为两个软刷和两个洗濯腔体或两个软刷和四个洗濯腔体。。。。。。DIDO预洗濯设备可实现与WIDO预洗濯设备一样的金属传染洗濯成效。。。。。。并且在使用配置六腔体设备时，，，，，，产能可达到每幼时60片晶圆。。。。。。
第三种可用配置是WIDO离线预洗濯设备，，，，，，合用于晶圆厂占地面积较幼的情况。。。。。。使用该设备时，，，，，，从CMP设备中出来后的湿晶圆需转移到DIW中，，，，，，并手动转移至WIDO离线预洗濯设备中，，，，，，使用一样洗濯工艺，，，，，，可实现一样的颗粒洗濯机能，，，，，，产能可达每幼时60片晶圆。。。。。。
