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2024/12/11 8:00:00
征途国际官网上海的Ultra Fn A ALD立式炉设备产品蕴含热原子层沉积(热ALD)和等离子体加强原子层沉积(PEALD)两种配置,,,,,可执行硬掩模层、反对层、距离层、侧壁�;;;;;;;;げ恪⒔橹侍畛涞榷嘀直∧こ粱ぷ鳎�,,,,满足指标工艺利用的各类需要。。。。。。这两种配置均选取六单元系统,,,,,可批量处置多达100片300mm晶圆。。。。。。该设备还蕴含四个装载端口系统(装载区可节造氧气浓度)、一个集成供气系统(IGS)和一个原位干法洗濯系统,,,,,所有设计均切合SEMI尺度。。。。。。
征途国际官网上海的Ultra Fn A PEALD设备当前利用沉积氮化硅 (SiN) 薄膜。。。。。。该机具选取双层管设计以及气流平衡技术,,,,,可能显著提升晶圆内(WIW)和晶圆间(WTW)的均匀性。。。。。。通过选取等离子加强技术,,,,,该设备还可有效降低器件的热预算。。。。。。此表,,,,,通过微调先驱体在前置单元中的存储和开释量,,,,,可能达成节造器件的关键尺寸和图案概括。。。。。。
征途国际官网上海的Ultra Fn A碳氮化硅(SiCN)热模式原子层沉积炉管设备已通过国内当先的集成电路造作客户的验证。。。。。。该设备可能实现超薄、无空地的薄膜沉积,,,,,并且可能精确节造薄膜厚度,,,,,达到原子级此外沉积精度。。。。。。同时,,,,,该设备还可能实现精确的碳掺杂,,,,,从而提升薄膜的硬度和耐侵蚀性。。。。。。此表,,,,,该设备还拥有内置的干法清洁职能,,,,,可能确�?????帕5牟槐湫浴!�。。。。